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CMP高精密研磨拋光機 -KD36QS4

本研磨機為單面精密研磨拋光設(shè)備,被磨、拋工件放于研磨盤上,研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動,通過摩擦力使工件自轉(zhuǎn),及加壓重塊對工件施壓,工件與研磨盤作相對運轉(zhuǎn)磨擦,來達到對工件的研磨拋光目的。...
描述參數(shù)選配樣品

可對應(yīng)高精度少量的研磨加工

應(yīng)用:
半導體材料:Si、Ge、GaAs、藍寶石、SiC、InP、GaN、MEMS、陶瓷基板等
精密光學:光學晶體、光學鏡頭、玻璃基板、ITO玻璃、藍寶石玻璃、濾波材料等
晶體材料:鈮酸鋰、鉭酸鋰、YAG、石英、紅外材料等

 

特點:

伺服修盤系統(tǒng),確保磨盤足夠的平坦度。磨盤在線檢測恒溫系統(tǒng),防止工件變形及脫片。多段貨柔性加壓系統(tǒng),滿足復雜的加工工藝要求。數(shù)字化加液系統(tǒng),減少磨液損耗。四工位獨立變速控制系統(tǒng)。

參選型號:

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